PVT-RS-35(A/D)

碳化硅双加热器电阻式长晶炉


用于6/8/12英寸导电和高纯半绝缘型SiC晶体生长,多加热器设计允许灵活的工艺和热场设置,上装载结构可实现便捷的开装炉及维护操作,同时设备拥有高精度控温、控压能力,工艺性能稳定优良。

结构紧凑省空间


用于6/8/12英寸导电和高纯半绝缘型SiC晶体生长,多加热器设计允许灵活的工艺和热场设置,上装载结构可实现便捷的开装炉及维护操作,同时设备拥有高精度控温、控压能力,工艺性能稳定优良。
+
  • d001(1745983762558).png

产品特点

 

结构紧凑省空间

结构紧凑,可采用并排布局,提高厂房利用率。

双控模式更节能

加热控制方式可在功率或者温度控制二种模式任意选择。

独立控制便于条纹

双加热器并独立控制,便于调整温度梯度。

满足6/8吋晶体生长

满足6/8吋半绝缘/导电晶体生长需求。

精准旋转保温均

籽晶轴旋转功能,精度±0.01rpm,便于营造径向温度均匀环境,满足厚晶体生长。

智能算法控精度

设备控制系统采用多种先进算法,控制精度高。

智能化

可根据客户需求,定制长晶环节自动化生产线。

 

 

技术参数

 
型号 PVT-RS-35(A/D)
尺寸:整机长 x 宽 x 高 2600X3000X3800mm
装料方式 上部装料
可选配置 热场及基础工艺包

相关产品